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  1. 紀要(神奈川工科大学研究報告)
  2. B 理工学編
  3. 第41号-第48号(2016年度-2024年度)
  4. 第43号

RFマグネトロンスパッタ法により製作したMgO 薄膜の結晶性に及ぼす基板温度の影響--材料分析室利用研究成果、そのXXIX(2)--

https://doi.org/10.34411/00001166
https://doi.org/10.34411/00001166
c66ecc4a-b376-47ac-b2f0-f645156f32dd
名前 / ファイル ライセンス アクション
kkb-043-004.pdf kkb-043-004.pdf (1.3 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2020-11-24
タイトル
タイトル RFマグネトロンスパッタ法により製作したMgO 薄膜の結晶性に及ぼす基板温度の影響--材料分析室利用研究成果、そのXXIX(2)--
言語 ja
タイトル
タイトル Effect of substrate temperature on the crystalline of MgO thin films by RF magnetron sputtering--Research works accomplished by using materials a nalysis facilities: XXIX(2)--
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 MgO thin films
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 substrate temperature
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 RF magnetron sputtering
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 XRD
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 secondary emission coefficient γ
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
ID登録
ID登録 10.34411/00001166
ID登録タイプ JaLC
著者 後藤, みき

× 後藤, みき

ja 後藤, みき

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今井, 雄貴

× 今井, 雄貴

ja 今井, 雄貴

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光高, 諒

× 光高, 諒

ja 光高, 諒

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中山, 玄

× 中山, 玄

ja 中山, 玄

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三栖, 貴行

× 三栖, 貴行

ja 三栖, 貴行

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荒井, 俊彦

× 荒井, 俊彦

ja 荒井, 俊彦

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Goto, Miki

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Imai, Yuki

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Mitsutaka, Ryo

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Nakayama, Hikaru

× Nakayama, Hikaru

en Nakayama, Hikaru

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Misu, Takayuki

× Misu, Takayuki

en Misu, Takayuki

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Arai, Toshihiko

× Arai, Toshihiko

en Arai, Toshihiko

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Magnesium oxide (MgO) thin films are great concern as electrode protection layer with very high secondary emission coefficient (γ) in the application such as plasma display panel (PDP). We have studied the effect of the substrate temperature on the crystalline structure and the secondary emission coefficient γ of MgO films. The MgO thin films have been fabricated by RF magnetron sputtering technique with various substrate temperatures of growth parameters. The secondary emission coefficient γ were estimated the breakdown voltage in Ne gas. The crystalline structure of the films was confirmed by X-ray diffraction (XRD) analysis. As a result, the preferred orientation of MgO thin films was observed in the [200] plane at substrate temperature between room temperature and 700℃. For temperatures above 500 ℃, [111] plane peak was observed. The secondary emission coefficient γ had a maximum at the substrate temperature of about 500℃.
言語 en
書誌情報 神奈川工科大学研究報告.B,理工学編

巻 43, p. 17-20, 発行日 2019-03-01
出版者
出版者 神奈川工科大学
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 21882878
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA12669200
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.1 2023-05-15 15:01:24.128526
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