WEKO3
アイテム
半導体プロセス用CF4/H2プラズマ中のCFラジカルの挙動
https://doi.org/10.34411/00000821
https://doi.org/10.34411/0000082141df57dd-c92c-4e83-b5b6-66e4df485bab
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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kkb-022-015.pdf (1.7 MB)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2020-11-24 | |||||||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||||||
| タイトル | 半導体プロセス用CF4/H2プラズマ中のCFラジカルの挙動 | |||||||||||||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||||||
| タイトル | Behavior of CF Radical in a CF4/H2 Plasma Used for Semiconductor Processing | |||||||||||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||||||||||||
| 言語 | ||||||||||||||||||||||
| 言語 | jpn | |||||||||||||||||||||
| キーワード | ||||||||||||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||||||||||||
| 主題 | C F radical, fluorocaibon, etching plasma,su rface reaction, laser induced fluorescence | |||||||||||||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||||||||||||||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||||||||||||||||||
| ID登録 | ||||||||||||||||||||||
| ID登録 | 10.34411/00000821 | |||||||||||||||||||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||||||||||||||||||
| 著者 |
眞篠, 聡一
× 眞篠, 聡一
× 堀越, 恵太
× 後藤, みき
× 荒井, 俊彦
× Mashino, Souichi
× Horikoshi, Keita
× Goto, Miki
× Arai, Toshihiko
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| 抄録 | ||||||||||||||||||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||||||||||||||||||
| 内容記述 | The behavior of CF radical in CF,/H,pl asma was studied as af unction of the fluoroca巾onfilm tltickness grown on the inner wall in DCp ulsed CF,/H,di scharge plasma.La ser-induced fluorescence was used to exantine the temporal behavior and radial distribution of CF radical density. The tltickness of fluoroca巾onfilms grown on the inner wall of the discharge tube was measured to investigate the influence of fluorocabon film formation on CF radical density in the plasma. It was found that tl1e CF radical density increased with increasing film tltickhess,and that the radial distribution of CF radical density changed to uniform profile. |
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| 言語 | en | |||||||||||||||||||||
| 書誌情報 |
神奈川工科大学研究報告.B,理工学編 巻 22, p. 91-94, 発行日 1998-03-20 |
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| 出版者 | ||||||||||||||||||||||
| 出版者 | 神奈川工科大学 | |||||||||||||||||||||
| ISSN | ||||||||||||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | PISSN | |||||||||||||||||||||
| 収録物識別子 | 09161902 | |||||||||||||||||||||
| 書誌レコードID | ||||||||||||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||||||||||||||||||
| 収録物識別子 | AN10074179 | |||||||||||||||||||||
| フォーマット | ||||||||||||||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||||||||||||||
| 内容記述 | application/pdf | |||||||||||||||||||||
| 著者版フラグ | ||||||||||||||||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||||||||||||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||||||||||||||||
