| Item type |
紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) |
| 公開日 |
2020-11-24 |
| タイトル |
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タイトル |
ホローカソードCF4プラズマ中のCF3,CF2ラジカル測定 |
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言語 |
ja |
| タイトル |
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タイトル |
Measurement of CF3 and CF2 Radicals in a Hollow Cathode CF4 Plasma |
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言語 |
en |
| 言語 |
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言語 |
jpn |
| キーワード |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Etching plasma |
| キーワード |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Hollow cathode discharge |
| キーワード |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
CF4 plasma |
| キーワード |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
CF3 radical |
| キーワード |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
CF2 radical |
| キーワード |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Mass spectrometry |
| 資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 |
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資源タイプ |
departmental bulletin paper |
| ID登録 |
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ID登録 |
10.34411/00000837 |
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ID登録タイプ |
JaLC |
| 著者 |
藤岡, 寛之
真篠, 聡一
愛敬, 仁
後藤, みき
荒井, 俊彦
Fujioka, Hiroyuki
Mashino, Souichi
Aikyo, Satoshi
Goto, Miki
Arai, Toshihiko
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| 抄録 |
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内容記述タイプ |
Abstract |
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内容記述 |
Neutral CF3 and CF2 radicals in a hollow cathode de CF4 discharge have been first measured under various discharge currents and CF4 pressures with a quadrupole mass spectrometer, using the threshold ionization technique. It has been found that the CF 3 and CF2 radical densities were higher than that obtained for other types of discharges. |
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言語 |
en |
| 書誌情報 |
神奈川工科大学研究報告.B,理工学編
巻 23,
p. 69-72,
発行日 1999-03-20
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| 出版者 |
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出版者 |
神奈川工科大学 |
| ISSN |
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収録物識別子タイプ |
PISSN |
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収録物識別子 |
09161902 |
| 書誌レコードID |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AN10074179 |
| フォーマット |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
application/pdf |
| 著者版フラグ |
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出版タイプ |
VoR |
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出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
kkb-023-011.pdf (1.5 MB)
