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  1. 紀要(神奈川工科大学研究報告)
  2. B 理工学編
  3. 第21号-第30号(1996年度-2005年度)
  4. 第23号

鏡面研磨Siウェーハ表面層のパルス光導電振幅による評価

https://doi.org/10.34411/00000849
https://doi.org/10.34411/00000849
76ed7d7c-870b-473c-bb5a-2e3442ca13c2
名前 / ファイル ライセンス アクション
kkb-023-006.pdf kkb-023-006.pdf (2.5 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2020-11-24
タイトル
タイトル 鏡面研磨Siウェーハ表面層のパルス光導電振幅による評価
言語 ja
タイトル
タイトル Subsurface Characterization of Mirror Polished Si Wafers Using Pulse Photoconductivity Amplitude
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 PPCA signal
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 Continuity equations
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 Subsurface damage
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 Photoconductivity
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 Chemomechanical polishing
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 Si wafer
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
ID登録
ID登録 10.34411/00000849
ID登録タイプ JaLC
著者 黒川, 昌毅

× 黒川, 昌毅

ja 黒川, 昌毅

en Kurokawa, Masaki

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荻田, 陽一郎

× 荻田, 陽一郎

ja 荻田, 陽一郎

en Ogita, Yo-ichiro

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Theoretical analysis on relationship between pulse photoconductivity amplitude (PPCA), surface recombination velocity (S0) and back surface recombination velocity (Sw) shows that PPCA is dependent on S0 but not dependent on Sw>3000cm/s. PPCA and microroughness measured for polishing pressure in a CMP process reveal the minimum of surface microroughness Rrms at 65g/cm2 and behavior of subsurface damages. PPCA was reconfirmed to well reflect to subsurface damage from the agreement with initial carrier lifetime measured with UV/mm-wave technique.
言語 en
書誌情報 神奈川工科大学研究報告.B,理工学編

巻 23, p. 33-38, 発行日 1999-03-20
出版者
出版者 神奈川工科大学
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 09161902
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN10074179
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.1 2023-05-15 15:06:57.328832
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