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  1. 紀要(神奈川工科大学研究報告)
  2. B 理工学編
  3. 第21号-第30号(1996年度-2005年度)
  4. 第25号

Spatial Distribution of Cu Atoms Sputtered from Copper Target in RF Magnetron Sputtering

https://doi.org/10.34411/00000902
https://doi.org/10.34411/00000902
b79d34ae-ce79-4dd2-80eb-f48f6afe064b
名前 / ファイル ライセンス アクション
kkb-025-021.pdf kkb-025-021.pdf (2.4 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2020-11-24
タイトル
タイトル Spatial Distribution of Cu Atoms Sputtered from Copper Target in RF Magnetron Sputtering
言語 en
言語
言語 eng
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 sputter deposition
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 thin films
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 quartz-crystal deposition monitor
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 mean free path
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
ID登録
ID登録 10.34411/00000902
ID登録タイプ JaLC
著者 万代, 敏夫

× 万代, 敏夫

ja 万代, 敏夫

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Bandai, Toshio

× Bandai, Toshio

en Bandai, Toshio

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 The spatial distribution of Cu atoms sputtered from a copper target in an RF magnetron sputtering was measured by the use of a quartz-crystal deposition monitor. At Argon pressure of 20 Pa, the angular distribution of sputtered atoms had a cosine-like distribution. At the lower Argon pressure, however, the deposition rate decreased at the front the target. This decrease was due to energetic neutral Ar atoms which bombarded and evaporated the growing films at the front of the target. The spatial distribution of Cu atoms sputtered from the target was simulated using the Monte Carlo method and compared with the observed result.
言語 en
書誌情報 神奈川工科大学研究報告.B,理工学編

巻 25, p. 131-136, 発行日 2001-03-20
出版者
出版者 神奈川工科大学
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 09161902
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN10074179
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.1 2023-05-15 15:06:13.239503
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