| Item type |
紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) |
| 公開日 |
2020-11-24 |
| タイトル |
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タイトル |
Catalytic-CVDによるSi上アルミナ生成におけるTMA/O2分解の質量分析 |
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言語 |
ja |
| タイトル |
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タイトル |
Mass Spectrometry of TMA/O2 Dissociation in Alumina Preparation on Silicon with Catalytic Chemical Vapor Deposition |
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言語 |
en |
| 言語 |
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言語 |
jpn |
| キーワード |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
High-k MOS |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
High-k gate |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
High-k insulator |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Cat-CVD |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Alumina |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Al2O3 |
| キーワード |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Quadrupole mass spectrometer |
| キーワード |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
Mass spectrum |
| キーワード |
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言語 |
en |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
TMA dissociation |
| 資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 |
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資源タイプ |
departmental bulletin paper |
| ID登録 |
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ID登録 |
10.34411/00000953 |
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ID登録タイプ |
JaLC |
| 著者 |
冨田, 寿行
荻田, 陽一郎
Tomita, Toshiyuki
Ogita, Yoh-Ichiro
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| 抄録 |
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内容記述タイプ |
Abstract |
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内容記述 |
We have investigated a dissociation of tri-methyl aluminum ((CH3)3Al,TMA) mixed with molecular oxygen (O2) dissociated by a tungsten hot wire in a catalytic chemical vapor deposition (Cat-CVD) method to deposit alumina thin films on a silicon crystal. The analysis was performed by a QMS (Quadrupole mass spectrometer). The dissociation of O2 was caused at about 900℃ for only O2 gas atmosphere and TMA at about 500℃ Dissociation of O2 mixed with TMA was caused at about 500℃ lower than 900℃. The temperature coincided with the temperature of 500℃ to abruptly grow Al2O3 on a Si crystal. |
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言語 |
en |
| 書誌情報 |
神奈川工科大学研究報告.B,理工学編
巻 28,
p. 45-49,
発行日 2004-03-20
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| 出版者 |
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出版者 |
神奈川工科大学 |
| ISSN |
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収録物識別子タイプ |
PISSN |
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収録物識別子 |
09161902 |
| 書誌レコードID |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AN10074179 |
| フォーマット |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
application/pdf |
| 著者版フラグ |
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出版タイプ |
VoR |
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出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
kkb-028-008.pdf (2.4 MB)
